Çin, Japonya menşeli diklorosilana yüzde 80,8-99,2 geçici anti-damping önlemi uygulayacak - Son Dakika
Son Dakika Logo
Son Dakika Uygulamayı yükle! YÜKLE

Çin, Japonya menşeli diklorosilana yüzde 80,8-99,2 geçici anti-damping önlemi uygulayacak

Google algoritmasına bırakmayın, okuyacağınız haberi siz seçin! Tıkla ve ekle

Çin Ticaret Bakanlığı, Japonya menşeli diklorosilanın dampingli satışının yerli sanayiye zarar verdiği ön kararına dayanarak bu ülkeden ithalata geçici anti-damping önlemleri getirileceğini açıkladı.

BEİJİNG, 7 Eylül (Xinhua) -- Çin Ticaret Bakanlığı, Japonya menşeli diklorosilanın Çin pazarına dampingli olarak satıldığına dair ön kararın ardından bu ülkeden yapılan diklorosilan ithalatına geçici anti-damping önlemleri uygulayacaklarını açıkladı.

Bakanlıktan pazartesi günü yapılan açıklamaya göre ithalatçılar, Çin'in anti-damping yönetmelikleri uyarınca 8 Eylül 2026 tarihinden itibaren yüzde 80,8-99,2 arasında değişen oranlarda nakit teminat yatıracak. Her şirket için belirlenen marj oranına göre değişen teminatlar, Çin Gümrük İdaresi'ne yatırılacak.

Yerli sektörden yapılan başvuru üzerine bakanlığın 7 Ocak 2026 tarihinde başlattığı soruşturmanın, Çin'in yasa ve yönetmeliklerine ve Dünya Ticaret Örgütü kurallarına tam riayetle yürütüldüğü belirtildi.

Bakanlık sözcüsü, ilk incelemelerde elde edilen kanıtlara göre, Japonya'dan yapılan dampingli ithalatın yerli sanayiye maddi zarar verdiğini ve söz konusu damping ile zarar arasında nedensel ilişki bulunduğunu söyledi.

Sözcü, ticareti düzeltme önlemlerine başvurma konusunda ihtiyatlı ve itidalli davranan Çin'in, adil ve serbest ticarete bağlılığını sürdürdüğünü ifade etti. Soruşturmanın yasalara uygun şekilde sürdürüleceğini ve ilgili tüm tarafların haklarının korunacağını kaydeden sözcü, soruşturma sonuçlarına göre objektif ve adil bir nihai karar verileceğini vurguladı.

Yarı iletken çip üretiminde kilit öneme sahip bir malzeme olan diklorosilan, mantık çipleri, bellek çipleri ve analog çipler gibi ürünlerin üretimine yönelik epitaksiyel, silisyum karbür, silisyum nitrür, silisyum oksit ve polisilikon filmlerde olduğu üzere ince film biriktirme süreçlerinde kullanılıyor. Silikon bazlı öncüller ve polisilazanların sentezinde de diklorasilandan yararlanılıyor.

Kaynak: Xinhua